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熱門關鍵詞：半導體領域儀器設備：等離子清洗機、紫外臭氧清洗機、勻膠機、烤膠機等。

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20258-1

國產等離子清洗機哪個品牌好？
在國產等離子清洗機領域，華儀行(CIF)是一個值得關注的品牌，尤其在實驗室及中試場景中表現突出。以下從品牌定位、技術特點、市場口碑及對比分析等方面展開說明：一、華儀行的核心優勢與定位華儀行是美國CIF集團在中國的子公司，成立于2014年，總...
20257-25

勻膠旋涂儀由哪些部分組成？
勻膠旋涂儀通過高速旋轉基片，利用離心力將滴加在基片表面的膠液均勻鋪展，形成納米至微米級厚度的薄膜。勻膠旋涂儀的構成：1、旋轉平臺：放置基底的核心部件，通常采用真空吸附或機械夾持固定基底，材質多為耐腐蝕金屬或陶瓷。2、驅動系統：由高精度電機驅...
20257-11

紫外臭氧清洗機可為各行業的表面處理提供解決方案
紫外臭氧清洗機憑借其在清潔、環保節能、安全可靠等多方面的優勢，在現代工業及科研等領域發揮著重要作用。隨著技術的不斷發展與完善，其應用范圍還將持續拓展，為各行業的表面處理提供解決方案，助力推動相關產業向更高質量、更可持續方向發展。紫外臭氧清洗...
20256-25

烤膠機的應用與操作規范
烤膠機是一種是一種設計為準確控溫、準確計時、高熱均勻性的高性能實驗室設備，可實現定時控溫烤膠操作，主要用于半導體硅片，載玻片，晶片，基片，ITO導電玻璃等工藝的制版的表面涂覆后薄膜烘干、固化。烤膠機的應用領域：1、半導體制造：用于前烘、堅膜...
20256-24

等離子去膠機的原理基于等離子體的物理和化學作用
等離子去膠機是一種利用低溫等離子體技術去除半導體、微電子、光電等領域中光刻膠殘留的設備，其原理基于等離子體的物理和化學作用，能夠高效、環保地去除有機污染物，廣泛應用于芯片制造、封裝測試等工藝環節。氣體電離：在真空腔體內，通過射頻(RF)電源...
20256-5

RIE反應離子刻蝕機的應用貫穿了整個微納制造領域
在芯片制造、傳感器開發或微機電系統(MEMS)生產中，材料的微米甚至納米級加工是決定產品性能的關鍵。RIE反應離子刻蝕機傳感器表面的微結構需要準確到微米級厚度，它通過物理轟擊與化學反應的協同作用，成為半導體和微納制造領域的核心技術工具。RI...

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華儀行（北京）科技有限公司

企業歷程:◆2006年，在美國加州洛杉磯注冊成立賽福國際集團有限公司（CIFInternationalGroupCo.,Ltd）。成立之初是一家面向大學科研院所銷售儀器設備的供應商。◆2008年，自主研發生產石墨電熱板以來，先后研發生產酸蒸逆流清洗器、酸純化器、智能消解儀等理化實驗儀器設備，從此走上研發生產專業化道路。◆2010年，掌握了等離子核心技術，自主研發生產科研型等離子清洗機系列產品。◆2014年，在中國注冊成立華儀行（北京）科技有限公司，正式進入中國市場，部分儀器設備研發、制造業務移至...

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地址：北京市豐臺區科興路7號國際企業孵化中心301室

郵箱：cif_lab@163.com

傳真：86-010-63752028

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